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勻膠機(jī)旋涂儀工作原理

更新時間:2024-02-29      點(diǎn)擊次數(shù):562

勻膠過程介紹:

一個典型的勻膠過程包括滴膠,高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個步驟。

滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。

靜態(tài)滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個基片上都涂到膠。

動態(tài)滴膠方式是在基片低速(通常在500轉(zhuǎn)/分左右)旋轉(zhuǎn)的同時進(jìn)行滴膠,動態(tài)"的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費(fèi),采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當(dāng)光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態(tài)滴膠尤其適用,不會產(chǎn)生針孔。滴膠之后,下一步是高速旋轉(zhuǎn)。使光刻膠層變薄達(dá)到最終要求的膜厚,這個階段的轉(zhuǎn)速一般在1500-6000轉(zhuǎn)/分,轉(zhuǎn)速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度,溶劑揮發(fā)速度,固體含量以及表面張力等)以及基片的大小。快速旋轉(zhuǎn)的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉(zhuǎn)速以及勻膠時間往往能決定最終膠膜的厚度。

                                                                                   安賽斯可編程勻膠機(jī)HC150PE

  一般來說,勻膠轉(zhuǎn)速快,時間長,膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多,這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以最好給予勻膠過程以足夠的時間,讓諸多影響因素達(dá)到平衡。安賽斯可編程勻膠機(jī)提供了靈活的勻膠速度、勻膠時間、加速度設(shè)置,滿足各種勻膠工序需求。勻膠工藝中最重要的一個因素就是可重復(fù)性。微細(xì)的工藝參數(shù)變化會帶來薄膜特性巨大的差異,下面對一些可變的因素進(jìn)行分析:

          安賽斯可編程勻膠機(jī)HC160PE

 

旋轉(zhuǎn)速度:

   勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過程中最重要的因素?;霓D(zhuǎn)速(rpm)不僅影響到作用于光刻膠的離心力,而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的湍動和基片與空氣的相對運(yùn)動速度。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉(zhuǎn)速所決定。尤其在高速旋轉(zhuǎn)這個階段,轉(zhuǎn)速±50rpm這樣微小變化就能造成最終膜厚產(chǎn)生10%的偏差。

         
膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥(溶劑揮發(fā))速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā),粘度越來越大,直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動。到這個點(diǎn)上,膠膜厚度不會隨勻膠時間延長而變薄。所有ANALYSIS(安賽斯(中國)有限公司)的勻膠機(jī)規(guī)格要求在量程范圍內(nèi)無論選擇哪個速度勻膠轉(zhuǎn)速偏差不大于±1rpm。而通常實(shí)際偏差是±0.2rpm。而且,所有的控制程序和轉(zhuǎn)速顯示的分辨能力都是1rpm。

 

加速度

        勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產(chǎn)生影響。因?yàn)樵诨D(zhuǎn)的第一階段,光刻膠就開始干燥(溶劑揮發(fā))了。所以精確控制加速度很重要。在一些勻膠過程中,光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過程開始的幾秒鐘內(nèi)揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠,加速度對膠膜質(zhì)量同樣起重要作用。在許多情況下,基片上已經(jīng)由前面工序留下來的精細(xì)圖形。因此,在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過程總是對光刻膠產(chǎn)生離心力,而恰恰是加速度對光刻膠產(chǎn)生扭力(twisting force,這個扭力使光刻膠在已有圖形的周圍散開,這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。ANALYSIS安賽斯(中國)有限公司勻膠機(jī)的加速度可以設(shè)定,精度1rpm/秒。在操作時,電機(jī)以線性躍升加速(或減速)到最終的勻膠速度。

  

排風(fēng)
          所有勻膠過程中光刻膠的干燥速度不僅取決于光刻膠的自身性質(zhì)(如所用溶劑體系的揮發(fā)性),而且還取決于勻膠過程中基片周圍的空氣狀況。一塊濕布在干燥有風(fēng)的日子干得快,而在潮濕氣候條件下干得慢。光刻膠的干燥速度與此相似,也受周圍環(huán)境條件的影響。大家都知道,像空氣溫度、濕度這樣的因素對決定膠膜性質(zhì)有重要的作用。勻膠的時候,減小基片上面的空氣的流動,以及因空氣流動引起的湍流(turbulence),或者至少保持穩(wěn)定也是十分重要的。所有ANALYSIS(安賽斯(中國)有限公司)勻膠機(jī)都采用密閉碗"設(shè)計(jì)。盡管密閉碗實(shí)際上并非是一個密不透氣的環(huán)境,在勻膠過程中排風(fēng)罩能讓很小的氣流通過,與位于勻膠臺旋轉(zhuǎn)頭(吸盤)下面的底部排氣口想配合,排風(fēng)罩成為一個排風(fēng)系統(tǒng)的通道,以達(dá)到減小希望有的隨機(jī)湍流的目的。這個系統(tǒng)有兩大明顯的優(yōu)點(diǎn):勻膠時光刻膠的干燥速度慢,對環(huán)境濕度的敏感性小。干燥(溶劑揮發(fā))速率較慢帶來的好處是膠面膜厚均勻性好。勻膠時,在光刻膠被甩向基片邊緣的同時,由于溶劑揮發(fā),光刻膠也同時得以干燥。這樣會造成光刻膠膜厚沿徑向不均勻。因?yàn)楣饪棠z的粘度隨基片中心到邊緣的距離發(fā)生了變化。通過降低溶劑揮發(fā)速度就有可能使整個基片表面上光刻膠的粘度保持比較恒定。

         干燥速度以及與其相關(guān)的最終膜厚也受到環(huán)境濕度的影響,相對濕度僅僅幾個百分點(diǎn)的變化卻可造成膜厚很大的變化。在一個密閉碗"中勻膠,光刻膠中溶劑揮發(fā),其蒸氣被留在碗內(nèi),這樣掩蓋了較小的濕度變化所造成的影響。當(dāng)勻膠過程結(jié)束的時候,打開排風(fēng)罩取出基片,保持充分排風(fēng),排盡溶劑蒸氣。

         “密閉碗"設(shè)計(jì)的另一個優(yōu)點(diǎn)是膠膜質(zhì)量對基片周圍空氣流的變化的敏感性降低。比如說,在一個有代表性的凈化室內(nèi),總有一個自上而下的穩(wěn)定的空氣垂直層流,其流速大約每分鐘100英尺(相當(dāng)于30/分)。有多方面的因素影響這股空氣流的局部質(zhì)量。常見的問題是擾動(湍流)和渦流(eddy  current)。而環(huán)境的微小變化能造成向下氣流的劇烈改變。用一個表面光滑的蓋子把"蓋起來就消除了由于操作人員和其他設(shè)備的存在而造成的環(huán)境變化和氣流的擾動.


 

勻膠工藝數(shù)據(jù)圖表

  下面四張圖代表了各種過程參數(shù)對勻膠結(jié)果影響的一般趨勢。就大多數(shù)光刻膠而言,最終膜厚與勻膠速度和勻膠時間成反比。如果排風(fēng)量太大,由于空氣擾動(湍流)造成膠膜的不均勻干燥,但膜厚還是與排風(fēng)量在一定程度上成正比。

 

 

 

 





 

 

勻膠工藝常見問題:

問題1:表面出現(xiàn)氣泡
可能原因:滴膠時膠中帶有氣泡
噴嘴切口有問題或帶刺

問題2:四周呈現(xiàn)放射狀條紋
可能原因
膠液噴射速度過高
設(shè)備排氣速度過高
膠涂覆前靜止時間過長
勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速或加速度設(shè)置過高
片子表片留有小顆粒
膠中有顆粒

問題3:中心出現(xiàn)漩渦圖案
可能原因:
設(shè)備排氣速度過高
噴膠時膠液偏離襯底中心
旋圖時間過長
加速度過高

問題4:中心出現(xiàn)圓暈
可能原因:
不合適的托盤,
噴嘴偏離襯底中心

問題5:膠液未涂滿襯底
可能原因:
給膠量不足
不合適的勻膠加速度

問題6:出現(xiàn)針孔現(xiàn)象
可能原因:
空氣中粉塵
光刻膠內(nèi)存在顆?;驓馀?/span>
襯底上存在顆粒



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